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【新闻】尔必达广岛新生产线导入VSEA离子注入设备辛集

发布时间:2020-10-19 05:28:28 阅读: 来源:插销厂家

提高了离子束注入角度的可控制性。 知名离子注入设备厂商——美国Varian Semiconductor Equipment Associates(VSEA)日前从日本尔必达获得了10台以上单晶圆式(Single Wafer)离子注入设备的订单。其中几台已经搬进了广岛尔必达工厂内新设的300mm晶圆生产线(计划于2005年12月投产)及现有的300mm生产线。剩余的几台将在几个月内导入。 离子注入设备通过向晶体管涂布杂质原子以形成源-漏极,目前该设备已经开始从批量(Batch)式向单晶圆式过渡。尔必达为新建的300mm生产线导入的VSEA的设备就采用了单晶圆式,注入能量为0.2~60keV,剂量为1013~5×1016/cm2。 VSEA的设备有如下3个特点:第一,离子束射入晶圆时,对注入角度的控制性和再现性均要比批量式设备好;第二,由于采用向具有扩散性的离子束,因此仅需使晶圆沿一个方向移动即可在整个晶圆表面完成注入。这样一来,即可防止批量式设备中存在的问题——晶圆驱动部位产生的微粒造成设备污染;第三,由于离子束的利用效率较高、晶圆的扫描速度较快,因此可以提高产量。据称,该设备仅亚洲地区的设备厂商就定购了100台以上。

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